Japanska Sokudo Co. Ltd. och CEA-Leti har meddelat att Sokudo kommer att gå med i det nya industri/forskningsprogrammet  Imagine som utvecklar elektronstrålelitografi för kretstillverkning.

I det treåriga programmet, som leds av det franska forskningsinstitutet CEA-Leti, ingår även TSMC och STMicroelectronics. Projektet utvärderar en infrastruktur för masklös litografi och användningen av Mapper litografiverktyg.

Det multipla elektronstrålelitografi-programmet omfattar en övergripande strategi för tekniken, inklusive verktyg för bedömning, mönstring och processintegration, datahantering, prototyping och kostnadsanalys.

E-beam har potential att vara en gångbar teknik för litografi i sub-22 nm för logik/foundry halvledartillverkning, menar Tadahiro Suhara, Sokudos vd och koncernchef, enligt ett pressmeddelande.

Filed under: Utländsk Teknik