Order på laserritare

Micronic Laser Systems AB erhöll idag order på ett Sigma7500-system från en av Nordamerikas största halvledartillverkare. Detta är den andra ordern på ett Sigma-system som Micronic fått under andra halvåret 2008. Systemet beräknas levereras före utgången av 2008.

– Det är ett bevis på systemets värde för fotomasktillverkare som kostnadseffektivt behöver öka kapaciteten och samtidigt möta kraven på korta ledtider, säger Sven Löfquist, koncernchef och VD för Micronic Laser Systems AB. Fotomaskmarknaden är utsatt både för en konjunkturnedgång och en strukturell förändring på grund av färre antal nykonstruktioner för avancerade tekniknoder under 100 nm. I den marknadssituationen vinner Sigma terräng och systemet är väl positionerat för att möta industrins behov av att minska kostnader.

Sigma7500 är avsedd för avancerade tillämpningar inklusive integrerade kretsar från tekniknoden 90 nm ner till 45 nm. Den höga rithastigheten möjliggör en effektiv fotomaskproduktion och ger snabbare produktlanseringar i dagens halvledarindustri med ökande konkurrens.

Med dess olika ritmoder, 4-pass och 2-pass, kan Sigma7500 optimeras för olika nivåer av fotomaskkrav Den ultravioletta lasern med 248 nm våglängd samt optiken ger mycket hög produktivitet, höga litografiska prestanda och en rithastighet som är oberoende av mönsterkomplexitet. Med ett SLM-chip (Spatial Light Modulator) med en miljon speglar, ritar systemet komplexa fotomaskmönster med en hastighet av 2 miljarder pixlar per sekund, vilket ger en rittid på bara 1,5 timmar.

Comments are closed.