SK Hynix satsar på NIL

SK Hynix har tecknat ett avtal om en gemensam utveckling av nanoimprint-litografi (NIL) med Toshiba. Avtalet bygger på ett MOU som de båda företagen tecknade i december förra året.

Utvecklingen av NIL-tekniken kommer att ske vid Toshibas komplex i Yokohama från och med april i år och det praktiska införandet i anläggningen beräknas starta under 2017.

NIL betraktas som en av de mest lovande teknikerna för morgondagens litografi inom minnesindustrin och som kan övervinna begränsningarna i dagens vanligaste processmetoder för mönstring.

Comments are closed.