Annons

GloFo slutför förvärvet av IBM Microelectronics

Global Foundries (GloFo) meddelar att företaget nu har slutfört förvärvet av IBM:s mikroelektronikverksamhet och har därmed stärkt företagets produkterbjudanden inom mobilitet, IoT, Big Data och högpresterande datorer. Med affären följer även fler än 16 000 patent och applikationer.

– Idag har vi en betydligt bättre kapacitet för teknikutveckling och stärkt vårt långsiktiga åtagande att investera i FoU för tekniskt ledarskap. Vi har lagt till teknik i världsklass och differentierade tekniker såsom RF och ASIC, säger Sanjay Jha, CEO för Global Foundries.

GloFo uppger att de genom förvärvet stärkt sina möjligheter att kunna gå över till processnoder i 10 nm, 7 nm och det som kommer därefter. Även inom RF har företaget fått förstärkning. IBM har stor kompetens inom RF-SOI och SiGe-teknik som kompletterar GloFo’s befintliga, traditionella produktutbud.

Företaget säger sig nu, genom förvärvet, även stärkt sin ASIC-kompetens för trådbunden kommunikation och kunna erbjuda de konstruktionsmöjligheter och IP som behövs för att utveckla kundanpassade produktlösningar och, genom ökande investeringar, planerar företaget att utveckla ytterligare ASIC-lösningar inom lagring, skrivare och nätverk. Den senaste ASIC-familjen som Företaget kom med i januari i år bygger på företagets 14 nm-LPP-teknik.

GloFo ökar också på sin tillverkningskapacitet med fabrikerna i East Fishkill, NY och Essex Junction, VT, i USA. Dessutom bygger transaktionen på betydande investeringar i den ”spirande Northeast Technology Corridor”, vilket inkluderar GloFo´s Fab 8-anläggning i Saratoga County, NY och gemensam FoU-verksamhet vid SUNY Polytechnic Institute’s College of Nanoscale Science and Engineering i Albany, NY. Bolagets närvaro i nordost överstiger nu 8.000 direktanställda.

I förvärvet ingår även ett exklusivt åtagande att under de kommande 10 åren leverera ”några av världens mest avancerade halvledarprocessorlösningar” till IBM. GloFo får också direkt tillgång till IBM: s fortsatta investeringar inom halvledarforskningen som ska leda fram till avancerade processgeometrier i 10 nm och därefter.

Comments are closed.