Annons

Snabbare väg mot EUVL

"College of Nanoscale Science and Engineering", CNSE, vid Albanyuniversitetet och det belgiska forskningsinstitutet IMEC planerar att samordna sina experiment med extrem ultraviolett ljuskälla för litografin till kommande generationers halvledarprocesser.

I samarbetet deltar även vetenskapsmän från IBM och från ASML. ASML har byggt världens första EUVL-maskin för forskning och utveckling, kallat Alpha Demo Tool.
Samarbetet är tänkt att snabbare ge erfarenheter av EUVL och den infrastruktur som hör till. Arbetet skall utmynna i tekniker för 32 nm processnod och kommande noder.

Comments are closed.