Annons

Ny fotoresist för organiska halvledare

Fujifilm och imec har gemensamt utvecklat en fotoresistteknologi som klarar mönster i submikronformat för organiska halvledare.

Organiska halvledare är lätta och flexibla och kan tillverkas i stora areor. Det gör dem ytterst intressanta i allt från solceller till flexibla displayer och fotodetektorer.
Idag används framför allt bläckstråleteknik och skuggmasker vid tillverkningen, men det ger inte tillräckligt bra resultat för högupplösta mönster på stora substrat. Fotolitografi skulle ge betydligt bättre upplösning, men dagens metoder för fotolitografi är framför allt optimerade för kiselbaserad tillverkning. De fotoresister som används löser upp de organiska materialen.
Den nya fotoresisttekniken från Fujifilm och imec har inte de begränsningarna och fungerar på organiska material utan att orsaka skador. Fotoresisten kan användas i befintliga litografiutrustningar, vilken gör att man slipper dyra investeringar i ny apparatur.
Tekniken har testats på organiska fotodetektorer med element ner till 0,2×0,2 mm. Den har också testats på OLED-displayer med bildpunkter på 20 µm.

Comments are closed.