Annons

32 nm från Toshiba

Toshiba lanserar nu en 32 nm-plattform, baserad på processamarbetet med NEC. Målet är att halvera kostnaden per funktion, jämfört med 45 nm-generationen.

Den nya plattformen har en cellstorlek för SRAM på bara 0,124 µm², vilket är hittills minst i 32 nm-klassen. Teknologin är baserad på metal-gate/high-K och klarar sig med en enda exponering per lager. Dubbla exponeringar, som är vanligt vid så avancerade processer ökar tillverkningskostnaden och försämrar processutbytet.

Comments are closed.