Fairchild och Infineon tecknar licensavtal
Fairchild Semiconductor och Infineon Technologies har tecknat ett licensavtal avseende MOSFET H-PSOF TO blyfri kapslingsteknik för fordonsindustrin.
Infineon Technologies AG och Fairchild Semiconductor Corp. meddelar att de tecknat ett licensavtal avseende Infineons avancerade MOSFET-kapslingsteknik H-PSOF (Heat Sink Plastic Small Outline Flat Lead), enligt en JEDEC-standard för TO blyfri kapsling (MO-299).
Kapslingen är utformad för att användas i fordonstillämpningar vilket inkluderar batterihantering för hybridfordon, elektriska styrservon (EPS), aktiva generatorer och andra elektriska system med hård belastning. Företagets TO-blyfria kapsling uppges vara det första ”paketet” som möjliggör strömstyrkor på 300 A. Den uppges också ge betydande fördelar i form av upptaget kortutrymme jämfört med den nuvarande D²PAK-kapslingen, med en mer än 20 procentig mindre, och en 50 procentig lägre kapselhöjd.
Fairchild räknar med att denna, den senaste MOSFET-tekniken, kommer att finnas tillgänglig under den andra halvan av 2012, med produktionsvolymer tillgängliga i mitten av 2013.
Filed under: Nordisk Teknik