Obdukat ska leda nytt NIL-projekt

Obdukat, med verksamhet inom nanoimprintlitografi och elektronstrålelitografi, kommer att leda ett transnationellt projekt döpt till ANILP. Projektet har initierats via det europeiska samarbetsorganet Eurostars och har en total budget på 2,2 miljoner euro.

En oberoende utvärderingspanelens bedömning placerade projektet som nummer 10 av totalt 510 kvalificerade ansökningar. Projektets mål är att utveckla en ny tillverkningsplattform, baserad på nanoimprintlitografi (NIL), för avancerad nanomönstring över stora ytor. Framsteg inom nanomönstringsteknologi har möjliggjort såväl förbättrad prestanda och kvalitet i existerande produkter som banat väg för nya produkter som introducerats på marknaden. Dessa framsteg är dock begränsade i termer av storleken på de ytor som kan nanomönstras.

Målet med ANILP är att utveckla en produktionsplattform, baserad på nanoimprintlitografi (NIL), för avancerad nanomönstring över ytor motsvarande 730×920 mm (Gen 4). Produktionsplattformen kommer att konstrueras för att möta behov inom industrier med tillverkning av komponenter såsom organiska LEDs, solceller samt displayer.

Det av Obdukat initierade konsortiet består av partners från två länder: Tyskland och Sverige. Partners från Tyskland är AMO GmbH och Temicon GmbH. Projektet startar den 13 november 2013 och löper över tre år med en total budget om 2,2 miljoner euro.

Comments are closed.